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应用于双大马士革电镀工艺
大奖国际电子游戏官网上海多阳极局部电踱装备应用千55/40/28和28纳米以下的大马士革铜金属层沉积 。
脉冲局部电镀手艺
适用于超薄种子层
高产能
自力�？樯杓�
低耗材本钱COC和运行本钱COO
装备应用于300毫米晶圆
最多可配至3个Load Port
最多可配至4个电镀腔体配备脉冲局部电镀功效
最多可配至4 个洗濯腔体
最多可配至8个退火腔体
电镀均一性:
WIWNU < 1.5%
WTWNU < 1.5%
